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机译:光学确定Cs-Ar低压直流放电中Cs的基态损耗
Philips Research Laboratories, N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, Netherlands;
机译:Ne(3s-3p)和ar(3p-4d)原子上的高压激光工作介质中单极电晕放电的光学特性
机译:低氩压下毛细放电中类似Ne的Ar 46.9 nm软X射线激光的特性
机译:大气压下射频电容耦合Ar / O_2辉光放电的放电特性
机译:在Ar / CH / sub 4 /等离子体中通过直流空心阴极(DCHC)辉光放电产生的类金刚石碳薄膜的特性
机译:介电势垒,微空心阴极和大气压下的混合模式放电的电学和光学特性。
机译:使用光流算法确定光诱导电动芯片中癌细胞旋转的三维速率
机译:从O2(X3σG - )余量恢复动态的完全调制O2 DC发光放电中的绝对O(3P)和O2(A1δG)密度和动力学的测定
机译:低压等离子体中大气压辉光放电物理和纳米粒子成核与动力学。 DE-FG02-00ER54583奖的最终报告。报告期:2000年8月15日至2007年8月14日