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Double injection in a large cylindrical p+‐π‐n+ germanium structure

机译:大圆柱形p +-π-n+锗结构中的双注入

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摘要

Observation of radial double‐injection semiconductor regime current in a forward biased hollow‐core coaxial p+‐π‐n+ germanium device is reported. The cylindrical structure is an annulus with concentric p+ and n+ contacts at the inner and outer radii, respectively. Measurements of the current‐voltage characteristic show linear behavior at low current and an I ∝ V2 relationship at higher injection levels. The magnitude of the double‐injection current is greater than predicted from simple theory, which is attributed to diffusion effects at the carrier injecting boundaries. A correction for these effects is discussed in terms of effective radii approximations which can be conveniently incorporated into the first‐order theory.
机译:报告了在正向偏置的中空同轴p +-π-n+锗器件中对径向双注入半导体态电流的观察。圆柱结构是一个在内半径和外半径分别具有同心p +和n +接触的环。电流-电压特性的测量结果表明,在低电流下具有线性行为,在较高注入水平下具有I ∝ V2关系。两次注入电流的幅度大于简单理论所预测的幅度,这归因于载流子注入边界处的扩散效应。根据有效半径近似讨论了对这些影响的校正,可以将其方便地纳入一阶理论。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1973年第3期|共2页
  • 作者

    Lee D. H.;

  • 作者单位

    Hughes Research Laboratories, Malibu, California 90265;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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