...
首页> 外文期刊>Journal of Applied Physics >Deuterium‐ion‐beam impurities produced by a gas‐discharge ion source (duopigatron)
【24h】

Deuterium‐ion‐beam impurities produced by a gas‐discharge ion source (duopigatron)

机译:气体放电离子源(duopigatron)产生的氘离子束杂质

获取原文

摘要

Mass‐spectroscopic analyses of dc deuterium‐ion beams produced by a duopigatron ion source were carried out. These analyses showed that under normal operating conditions the beams contained less than 1% of impurities and consisted primarily of masses 12, 14, 16, 18, 20, and 22 and some metal ions. The source of the metal contaminants was the secondary cathode. Several cathode materials including Mo, Al, Al2O3, BN, and TiB2 were tested.
机译:质谱分析了由duopigatron离子源产生的直流氘离子束。这些分析表明,在正常操作条件下,束中的杂质少于1%,并且主要由质量12、14、16、18、20和22以及一些金属离子组成。金属污染物的来源是次级阴极。测试了几种阴极材料,包括Mo,Al,Al2O3,BN和TiB2。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1979年第5期| P.3247-3249| 共3页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号