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机译:注入磷的激光退火硅的炉退火行为
机译:红外半导体激光退火注入磷原子的硅的再结晶行为
机译:覆盖有SiO2膜的注磷硅衬底的激光退火行为
机译:脉冲激光和氮注入硅炉退火的比较
机译:在SIN / ARC之前或之后使用局部激光熔体(LLM)退火将POCL3和BBR3炉扩散掺杂源与磷和硼注入以及等离子掺杂源用于选择性发射极形成的选择性发射极进行比较
机译:离子注入硅的热退火过程中的磷缺陷相互作用。
机译:通过硅烷化合物改性和快速热退火处理化学镀镍磷膜在硅片上的附着力
机译:用深水平瞬态光谱法通过炉退火或激光退火激活阳极漏电流分析