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State‐of‐the‐art AlGaAs alloys by antimony doping

机译:锑掺杂技术的最先进的AlGaAs合金

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摘要

Historically GaAlAs alloys grown by molecular‐beam epitaxy have high deep level concentrations (≫1016 cm-3), low luminescent efficiency with broad peaks, and are difficult to dope controllably below mid 1016 cm-3. We report the effect that the low incident antimony molecule fluxes during growth appear to help reduce the density of deep levels below 1014 cm-3, which then allows reproducible doping control in the low 1015 cm-3 range. Exciton‐dominated photoluminescence with half widths ∼4.0 meV are now routinely achieved using this technique. Further evidence for the quality improvement of AlGaAs by heavy atom (Sb) doping comes from high 4 K two‐dimensional electron gas mobilities for low sheet electron densities, e.g., 1.3×106 cm2/V s for n=2×1011 cm-2. SIMS profiles of antimony content are presented and estimates of incorporated concentrations are given.
机译:从历史上看,通过分子束外延生长的GaAlAs合金具有较高的深能级浓度(≫1016 cm-3),发光效率低且具有宽峰,并且难以在1016 cm-3中部以下进行可控掺杂。我们报道了在生长过程中低入射锑分子通量似乎有助于降低低于1014 cm-3的深层密度的作用,然后允许将重现的掺杂控制在1015 cm-3的低范围内。现在,使用这种技术可以常规地实现半峰〜4.0 meV的激子为主的光致发光。通过重原子(Sb)掺杂来改善AlGaAs的质量的进一步证据来自于低薄电子密度的高4 K二维电子气迁移率,例如对于n = 2×1011 cm-2为1.3×106 cm2 / V s 。给出了锑含量的SIMS曲线,并给出了掺入浓度的估算值。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1986年第4期| P.1300-1305| 共6页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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