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机译:聚酰亚胺覆盖的Al-Cu导体条中电迁移失败的活化能
机译:用漂移速度法测试铝导体中电迁移的活化能
机译:推断铜和银导体中电子构型和溶质原子的活化能对电迁移空隙形成的影响
机译:在电流应力下两个铜电极之间的Sn-3重量百分比Ag-0.5重量百分比Cu-3重量百分比Bi焊料条中的电迁移
机译:聚酰亚胺包覆Cr / Al-Cu薄膜导体电迁移破坏的动力学研究及应力依赖活化能问题
机译:用于ULSI应用的IC金属化系统和铜金属化中电迁移故障的建模和表征。
机译:锡在镍和铜金属化过程中表面扩散扩散引起电迁移的新机理
机译:EL / Cu薄膜互连电迁移诱导故障统计分布的比较研究
机译:通孔导体几何形状对al:Cu导线电迁移失效的影响