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机译:YBa2Cu3O7-δ薄膜厚度引起的表面织构和内部残余应力变化
Research Center for Superconductors and Applied Technologies, Physics Department, Shanghai University, Shanghai 200444, China;
机译:YBa_2Cu_3O_(7-δ)薄膜厚度引起的表面织构和内部残余应力变化
机译:晶体群法确定YBCO织构薄膜厚度诱导的残余应力
机译:溅射锡薄膜纹理和残余应力标志过渡的膜厚度效应
机译:通过X射线衍射将纹理表面上的多Si薄膜厚度表征在多Si / SiO2钝化接触电池中最小化寄生吸收
机译:通过过滤的阴极真空电弧和薄膜介质,铜铝镍形状记忆合金和表面纹理化的硅的纳米机械性能进行表面改性。
机译:基于水泡试验技术的残余应力薄膜/基体系统表面和界面力学性能同步表征的理论研究
机译:薄膜硅太阳能电池的纹理化AZO:旨在了解AZO膜厚度对表面纹理化特性的影响
机译:具有磁耦合的多丝YBa2Cu3O7-delta薄膜的动态场和电流分布(pOsTpRINT)