机译:通过直流磁控溅射沉积的ZnO多晶膜的Al,Ga,In和Ti供体N型掺杂的化学趋势
Advanced Coating Technology Research Center National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) Tsukuba Central 5-2 1-1-1 Higashi Tsukuba Ibaraki 305-8565 Japan;
Research Institute Kochi University of Technology 185 Miyanokuchi Tosayamada Kami Kochi 782-8502 Japan;
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机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子传输和晶体学取向特征
机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的高透明导电Al掺杂ZnO多晶线膜的载流子迁移率:晶界效应和晶粒体积中的散射
机译:使用10 nm厚缓冲层改善直流磁控溅射含Al掺杂的ZnO多晶薄膜的特性,该薄膜包含保留的原子。
机译:直流磁控溅射制备二氧化钛掺杂的氧化锌(ZNO:TI)和镓掺杂的氧化锌(ZNO:GA)薄膜的退火效应
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:磁控溅射沉积al掺杂ZnO薄膜:溅射参数对电学和光学性能的影响