机译:Si / Hf_(x)Ti_(1-x)O_(2)/金属结构中的电导率和能带偏移
Department of Physics, University of Leuven, 3001 Leuven, Belgium;
机译:HfO_2和Hf _((1-x))Si_xO_2高k绝缘势垒上的内部光发射:带偏移和界面偶极子表征
机译:在应用氧化物场校正后,利用跨金属氧化物半导体结构的Fowler-Nordheim隧穿特性确定SiO_2和SiC导带偏移中的空穴有效质量
机译:使用Pt /(Bi_(3.15)Nd_(0.85)(Ti_(3-x)V_x)O_(12)/ Y_2O_3 / Si结构的金属-铁电绝缘体-半导体电容器的电性能
机译:基于分子模拟的(Li_(x)Nb_(1-x))_(0.25)Ti_(0.75)O_(2)的结构和介电性能研究
机译:RPECVD制备的硅酸alloy合金的光谱研究:导带/价带偏移能和光学带隙的比较。
机译:通过HALL偏移电压探测InGazno薄膜的传导带边的能量轮廓
机译:载流子诱导铁磁体的特征 Ti_ {1-x} Co_ {x} O_ {2-delta}:高自旋Co 2+与之间的交换作用 Ti 3d传导带
机译:用分子束外延生长的II型In0.27Ga0.73sb / Inxal1-xasysb1-y异质结构中导带偏移的确定。