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Step control of vicinal 6H-SiC(0001) surface by H_2 etching

机译:通过H_2刻蚀对相邻的6H-SiC(0001)表面进行分步控制

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摘要

Anisotropic step bunching on vicinal 6H-SiC(0001) surface induced by H_2 etching was investigated. Step structures were observed using atomic force microscopy and high-resolution transmission electron microscopy at off angle <2°. The etched surfaces exhibited three types of step bunching: (1) straight six-bilayer steps, (2) straight six-bilayer steps and nanofacets, and (3) zigzag three-bilayer steps. The step height and density can be controlled by a tilt angle and direction of a vicinal surface. Mechanisms of the step bunching processes are discussed at points of an anisotropy of lateral-etching rates and surface-free energies.
机译:研究了H_2刻蚀在邻近的6H-SiC(0001)表面上的各向异性台阶聚束现象。使用原子力显微镜和高分辨率透射电子显微镜在偏角<2°处观察到台阶结构。蚀刻的表面表现出三种类型的阶梯成束:(1)直六层阶梯,(2)直六层阶梯和纳米面以及(3)锯齿形三层阶梯。台阶高度和密度可以通过邻近表面的倾斜角度和方向来控制。在横向刻蚀速率和表面自由能的各向异性点上讨论了成束过程的机理。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2005年第10pt1期|p.104919.1-104919.5|共5页
  • 作者单位

    Department of Electrical and Electronic Engineering, Toyohashi University of Technology, l-1 Hibarigaoka, Tempaku cho, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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