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机译:超薄高k电介质堆栈的光学二次谐波生成研究
JILA, University of Colorado, Boulder, Colorado 80309;
机译:Ge上超薄高k栅极电介质的介电弛豫和缺陷产生的可靠性评估研究
机译:使用具有超薄SiO2-ALN的高k电介质叠层在4H-SIC MOSFET中获得的改进的装置特性作为界面层
机译:高K栅堆叠的介电击穿与超薄氧化物的逐步击穿之间有很强的类比
机译:超薄高k栅极堆叠中的介电击穿恢复。对MOSFET和电路性能的影响
机译:二次谐波探测自组装单分子层(SAM)二氧化硅-SAM-水界面的非线性光学研究。
机译:DNA膜水合的光学三次谐波生成研究。
机译:次谐波产生作为Ge / high-k介电界面的表征工具