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Computational study of Ge and Sn doping of CdTe

机译:CdTe的Ge和Sn掺杂的计算研究

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摘要

The formation and ionization energies of substitutional Ge and Sn dopants in CdTe are calculated in a supercell model within the local-density approximation to density-functional theory. Doping on both the Cd and Te sublattices is considered, but the formation energy of both defects is predicted to be much lower on the Cd site under most growth conditions. The Ge and Sn on the Cd sites are predicted to be deep donors and hole traps with defect ionization levels near the midgap, with Ge slightly lower than Sn, in good agreement with experiments. The Ge and Sn on the Te sites are predicted to be shallow acceptors.
机译:CdTe中取代的Ge和Sn掺杂剂的形成和电离能在超级电池模型中以密度泛函理论的局部密度近似计算得出。考虑了在Cd和Te亚晶格上掺杂,但是在大多数生长条件下,两种缺陷的形成能预计在Cd位置上都低得多。预计Cd位置上的Ge和Sn是深施主和空穴陷阱,在中带隙附近具有缺陷离子化水平,Ge略低于Sn,与实验吻合良好。预测Te位点上的Ge和Sn是浅受体。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |2006年第3期| p.033704.1-033704.4| 共4页
  • 作者

    John E. Jaffe;

  • 作者单位

    Chemical Sciences Division, Fundamental Science Directorate, Pacific Northwest National Laboratory, P.O. Box 999, Richland, Washington 99352;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学 ; 计量学 ;
  • 关键词

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