...
首页> 外文期刊>Journal of Applied Physics >Band structures of AlAs, GaP, and SiGe alloys: A 30 k×p model
【24h】

Band structures of AlAs, GaP, and SiGe alloys: A 30 k×p model

机译:AlAs,GaP和SiGe合金的能带结构:30 k×p模型

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

The band structure of indirect-band gap semiconductors (AlAs, GaP) as well as indirect-band gap alloys semiconductors (GeSi) is described theoretically by using a 30 × 30 k × p model including the d far-level contribution. For all materials investigated, the resulting electronic band structure parameters are in good agreement with experimental values. The method also provides a good description of the second conduction band which is useful for transport modeling. Finally, our results show that Luttinger parameters, the k valence band parameter, and the effective masses in the X and L valleys are in good agreement with available experimental data.
机译:理论上,通过使用包含d远级贡献的30×30 k×p模型,来描述间接带隙半导体(AlAs,GaP)以及间接带隙合金半导体(GeSi)的能带结构。对于所有研究的材料,所得的电子能带结构参数与实验值高度吻合。该方法还提供了对第二传导带的良好描述,这对于传输建模很有用。最后,我们的结果表明,Luttinger参数,k价带参数以及X和L谷中的有效质量与可用的实验数据非常吻合。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2007年第5期|053703.1-053703.6|共6页
  • 作者单位

    Laboratoire de Physique des Materiaux: Structures et Proprietes, Faculte des Sciences de Bizerte, Universite 7 Novembre a Carthage, 7021 Zarzouna, Bizerte, Tunisia;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号