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Stark effect and oscillator strength in a Si_(1-x)Ge_x/Si quantum disk

机译:Si_(1-x)Ge_x / Si量子盘中的斯塔克效应和振荡器强度

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摘要

In the framework of the effective mass approximation, we develop a method to study the quantum-confined Stark effect in a Si_(1-x)Ge_x/Si quantum disk. The hole energy levels are calculated presence of a vertically applied electric field adiabatic approximation using an exact diagonalization technique. The effects of strain, finite offset, and the difference between effective masses of holes in different materials are taken into account. The oscillator strength of the Si_(1-x)Ge_x/Si quantum disk system under a vertically applied electric field is also studied. Our calculated results are useful for the application of Si_(1-x)Ge_x/Si quantum disks in photoelectric devices.
机译:在有效质量近似的框架内,我们开发了一种方法来研究Si_(1-x)Ge_x / Si量子盘中的量子限制斯塔克效应。空穴能级是使用精确对角化技术计算的,在垂直方向施加电场绝热近似。考虑了应变,有限偏移以及不同材料中孔的有效质量之间的差异的影响。还研究了垂直施加电场下Si_(1-x)Ge_x / Si量子盘系统的振动强度。我们的计算结果对于在光电器件中应用Si_(1-x)Ge_x / Si量子盘很有用。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |2007年第9pt1期|p.093709.1-093709.6|共6页
  • 作者

    Jin-Long Liu; Jing Zhu;

  • 作者单位

    Electron Microscope Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

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