Correlation of structural and magnetic properties of ferromagnetic Mn-implanted Si_(1-x)Ge_x films

V. Ko; K. L. Teo; T. Liew; T. C. Chong; T. Liu; A. T. S. Wee; A. Y. Du; M. Stoffel; O. G. Schmidt

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Correlation of structural and magnetic properties of ferromagnetic Mn-implanted Si_(1-x)Ge_x films

机译：铁磁锰注入Si_（1-x）Ge_x薄膜的结构和磁性相关

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We present a comprehensive study relating the magnetic properties to structural properties of Mn~+-implanted Si_(1-x)Ge_x films as a function of Ge content (x=0-0.5). Ferromagnetic ordering with three critical temperatures, T_B～10-16 K, T_(C1) ～ 650-780 K

机译：我们提供了一个综合的研究，将磁性能与Mn〜+注入的Si_（1-x）Ge_x薄膜的结构性能作为Ge含量的函数（x = 0-0.5）进行了比较。 T_B〜10-16 K，T_（C1）〜650-780 K三种临界温度的铁磁有序

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来源
《Journal of Applied Physics 》 |2008年第5期| 397-403| 共7页
作者
V. Ko; K. L. Teo; T. Liew; T. C. Chong; T. Liu; A. T. S. Wee; A. Y. Du; M. Stoffel; O. G. Schmidt;
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