机译:使用分子p掺杂剂对有机半导体层中系统变化的掺杂浓度进行光电子能谱研究
Institut fuer Angewandte Photophysik, Technische Universitaet Dresden, D-01062 Dresden, Germany;
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机译:硬X射线光电子能谱(HX-PES)研究超浅等离子体掺杂硅层的化学键合态,以用于先进的ULSI器件
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机译:各种清洗方法对水基缓冲层浸涂Ni-5%W衬底的影响:X射线光电子能谱研究
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机译:用热分析和光电子能谱法测定一级和二级有机物的相对浓度和硫化合物的形态