机译:介电势垒放电对硅表面的影响:表面粗糙度,清洁和氧化
Institut fuer Oberflaechentechnik (IOT), Technische Universitaet Braunschweig, Bienroder Weg 53, 38108 Braunschweig, Germany;
Department of Interface Chemistry and Surface Engineering, Max-Planck-Institut fuer Eisenforschung (MPIE), Duesseldorf, Max-Planck-Strasse 1, 40237 Duesseldorf, Germany;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt (PTB), Abbestrasse 2-12, 10587 Berlin, Germany;
Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films (IST), Bienroder Weg 54 E, 38108 Braunschweig, Germany;
Chair of Technical and Macromolecular Chemistry, University of Paderborn, Warburger Strasse 100, 33098 Paderborn, Germany;
Institut fuer Oberflaechentechnik (IOT), Technische Universitaet Braunschweig, Bienroder Weg 53, 38108 Braunschweig, Germany Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films (IST), Bienroder Weg 54 E, 38108 Braunschweig, Germany;
机译:大气压下使用介电势垒放电时放电脉冲对清洁表面的影响
机译:电介质共面表面势垒放电中的等离子体清洁和硅表面活化
机译:反应堆表面粗糙度对介质阻挡放电中苯氧化的影响
机译:通过表面介电阻挡放电等离子体清洁二氧化硅表面
机译:不同介电材料在不对称介电阻挡排出致动器中的变化型抗缩放效应的研究
机译:介电势垒对纳秒脉冲表面介电势垒放电影响的数值研究
机译:低功率柔性介质屏障放电消毒表面并提高过氧化氢的作用