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机译:磁控溅射从铜,铟和钨靶中溅射出Ar / h_2s时基体上的离子能量分布
Dept. Solare Energetik, Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie, Glienicker Str. 100, D-14109 Berlin, Germany;
机译:通过反应磁控溅射从铜和铟靶材一步制备的铜铟二硫化物太阳能电池吸收剂
机译:Ar / N {sub} 2混合物中元素靶的反应性直流磁控溅射:放电特性与相应氮化物形成热之间的关系
机译:非均匀靶标中毒对反应性直流磁控管放电中溅射的原子能量分布的影响
机译:Ar,Ar / Cl_2和Ar / CH_4 / H_2化学物质中RF溅射铟锌氧化物薄膜的高密度等离子体蚀刻
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:反应磁控溅射制备的电致变色铟锡锌氧化物薄膜
机译:氩和Ar / N-2中碳的反应性大功率脉冲和直流磁控溅射过程中放电的离子质谱研究