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李岱青; 宫宝安; 万亚; 刘家瑞; 徐天冰;
无;
机译:Si_n〜-(n = 1,2)离子轰击的银靶溅射原子的形貌和角分布
机译:在稀释氩/氧气混合物中通过低能量Ar +离子轰击溅射在铜靶的溅射期间产生正极和带负电的分子离子
机译:多孔径空心靶:确定等离子体浸没离子注入中离子入射角的方法
机译:Ga-In共晶合金靶的溅射中性原子的测得能量和角分布
机译:雷德伯格原子与附着靶和极性靶碰撞中负离子形成的比较研究。
机译:原子氮/氢的作用在GaN薄膜生长中通过用双重等离子体来源化学辅助溅射
机译:利用中子入射角分布在梁注入的氘质等离子体中对墙壁的核加干扰散射效果的验证场景
机译:KeV ar exp +离子轰击从Cu,pt和Ge靶溅射的粒子的角分布
机译:电子束入射角测量装置,电子束入射角分布测量装置,电子束曝光装置,电子束入射角测量方法和电子束入射角分布测量方法
机译:可用于溅射基板的靶包括与水平线呈减小的入射角的多边形平整部分,其中靶以用于细长等离子体激元的细长靶的形式存在。
机译:基于负离子的中性原子注入器束,其中包括适合产生负离子束的离子源,加速器和中和器,适用于产生中性原子束C的离子源,加速器和中和器功率约为5 MW。
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