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机译:基于沉积在碳化硅上的不同压电膜的声波器件的理论研究
Laboratory of Modern Acoustics, Institute of Acoustics, Nanjing University, Nanjing 210093, People's Republic of China;
Laboratory of Modern Acoustics, Institute of Acoustics, Nanjing University, Nanjing 210093, People's Republic of China;
Laboratory of Modern Acoustics, Institute of Acoustics, Nanjing University, Nanjing 210093, People's Republic of China;
Laboratory of Modern Acoustics, Institute of Acoustics, Nanjing University, Nanjing 210093, People's Republic of China;
机译:三极管溅射沉积的表面声波器件压电铝膜
机译:用于表面声波器件的沉积在硅和石英基板上的AIN膜的结构和微结构特性研究
机译:SCAIN,ZnO和PBTIO_3压电薄膜的偏振控制:偏振倒多层散装声波和表面声波器件的应用
机译:通过PECVD技术沉积的碳化硅薄膜用于光电化学水分解装置
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:Si / SiO2 / ZnO压电结构中多频表面声波器件的实验和理论研究
机译:基于压电薄膜器件激励的体声波的mEms传感器物理性能,性能及应用研究
机译:先进碳化硅薄膜生长技术的研究与开发及高功率微波频率碳化硅器件结构的制作