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机译:纳米级干法对原子精度及以后的重新思考的表面反应:物理与化学观点
Nagoya Univ Chikusa Ku Furo Cho Nagoya Aichi 4648603 Japan;
Kanazawa Univ Kanazawa Ishikawa 9201192 Japan;
Osaka City Univ Sumiyoshi Ku 3-3-138 Sugimoto Osaka 5588585 Japan;
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Heverlee Belgium;
Univ Grenoble Alpes LTM CNRS F-38054 Grenoble France;
Lam Res Corp 4400 Cushing Pkwy Fremont CA 94538 USA;
Lam Res Corp 4400 Cushing Pkwy Fremont CA 94538 USA;
America LLC TEL Technol Ctr Albany NY USA;
IBM TJ Watson Res Ctr 1101 Kitchawan Rd Yorktown Hts NY 10598 USA;
ULVAC Inc 2500 Hagisono Chigasaki Kanagawa 2538543 Japan;
ULVAC Inc 2500 Hagisono Chigasaki Kanagawa 2538543 Japan;
Univ Maryland College Pk MD 20742 USA;
Samsung Elect Co Ltd 130 Samsung Ro Suwon Gyeonggi Do South Korea;
Toshiba Memory Corp 800 Yamanoisshiki Cho Yokaichi Mie 5128550 Japan;
AIO Core Co Ltd 16-1 Onogawa Tsukuba Ibaraki 3058569 Japan;
机译:重新思考纳米级干法中的表面反应,朝着原子精度及更高的方向发展:物理和化学观点
机译:从原子贡献中了解反应机理的物理和化学:反应力的观点
机译:从原子贡献中了解反应机理的物理和化学:反应力的观点
机译:原子层处理中表面化学控制的建模和仿真观点
机译:高精度原子质谱仪,应用于中微子物理学,基本余弦和物理化学
机译:通过机械化学反应以单原子层精度对硅表面进行纳米制造
机译:纳米干法工艺的进展和前景:我们如何控制原子层反应?