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机译:利用三维压电响应图像研究Bi_(3.35)La_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜随机取向的极化特性
School of Information and Communications Engineering, SungKyunKwan University, 300, Chunchun-Dong, Jangan-Ku, Suwon 440-746, Korea;
ferroelectrics; piezoresponse force microscope (PFM); BLT; thin film; domain;
机译:Bi-(3.35)La_(0.85)Ti_3O_(12)铁电薄膜的显微结构和域结构变化的研究是通过两步快速热退火(RTA)过程利用压电响应(力)力形成
机译:Bi_(3.35)La_(0.85)Ti_3O_(12)薄膜的三维压电响应图像研究
机译:退火环境对化学溶液衍生的纳米Bi_(3.15)La_(0.85)Ti_3O_(12)薄膜的磁和铁电性能的影响
机译:均匀α轴定向铁电Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)薄膜在Si(100)基板上的生长,结构和性质
机译:高速压电响应力显微镜直接观察铁电薄膜中的极化反转过程
机译:取向对Bi3.15Nd0.85Ti2.99Mn0.01O12薄膜在低温和高温下的极化转换和疲劳的影响
机译:极化切换和疲劳特性高(117) - 均为Bi3.15nd0.85ti2.99mn0.01o12在低温和高温下的铁电薄膜