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机译:由原子层沉积镍薄膜形成具有高温稳定性的低电阻硅化镍
School of Electrical Engineering and Computer Science, Kyungpook National University, Daegu 702-701, Korea;
nickel silicide; atomic layer deposition; sheet resistance; nickel disilicide;
机译:利用原子层沉积镍薄膜形成低电阻率锗化镍
机译:镍和硅烷催化化学气相反应合成硅化镍薄膜的相形成和形貌
机译:镍薄膜的特性和通过使用Ni((i)Pr-DAD)(2)进行远程等离子体原子层沉积形成硅化镍
机译:在沉积镍膜之前使用N2离子注入提高硅化镍的热稳定性
机译:过渡金属合金化硅化镍薄膜的原子探针层析成像研究。
机译:热氧化硅衬底上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性
机译:微拉曼对硅化镍薄膜相形成和热稳定性的表征。
机译:表面声波与镍薄膜相互作用的温度依赖性。