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【24h】

Embedded Decoupling Capacitors up to 80 nF on Multichip Module-Deposited with Quasi-Three-Dimensional Metal-Insulator-Metal Structure

机译:在多芯片模块上沉积高达80 nF的嵌入式去耦电容,该模块采用准三维金属-绝缘体-金属结构沉积

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摘要

Embedded capacitors with available capacitances up to ~80 nF have been implemented on a thin-film multichip module-deposited (MCM-D) substrate. By cost-effective silicon wet etching, a new metal-insulator-metal (MIM) structure named quasi-three-dimensiona
机译:在薄膜多芯片模块沉积(MCM-D)基板上实现了具有高达〜80 nF可用电容的嵌入式电容器。通过具有成本效益的硅湿法蚀刻,一种名为准三维的新型金属-绝缘体-金属(MIM)结构

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