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【24h】

Direct Patterning of Silicon Nitride Thin Film by Projection Photoablation for Fabricating Thin-Film Transistor Liquid Crystal Displays

机译:通过投影光烧蚀直接图案化氮化硅薄膜以制造薄膜晶体管液晶显示器

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摘要

The direct patterning of silicon nitride (SiN_x) thin films on glass substrates using a KrF 248 nm excimer laser has been investigated. The direct laser patterning process offers a cost-effective alternative to wet- and dry-etch lithographies for the fabr
机译:研究了使用KrF 248 nm准分子激光器在玻璃基板上直接图案化氮化硅(SiN_x)薄膜的方法。直接激光图案化工艺提供了一种经济,有效的替代,用于湿法和干法蚀刻平版印刷

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