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机译:硅油蒸气与臭氧气体反应产生的氧化硅膜低温沉积
School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology,1-1 Asahidai, Nomi, Ishikawa 923-1292, Japan;
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机译:沉积速率和OH含量对使用硅油和臭氧气体沉积的低温氧化硅膜中三氯乙烯添加浓度的依赖性
机译:三氯乙烯增强对硅油和臭氧沉积低温氧化硅膜沉积速率的影响
机译:结晶硅的气相成核及其在热线化学气相沉积过程中在微晶膜低温沉积中的作用
机译:三氯乙烯(TCE)对硅油和臭氧气体生长的低温SiO2薄膜沉积速率和薄膜质量的影响
机译:在硅表面上的氧化锶膜的金属有机化学气相沉积和原子层沉积。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:由四(二乙氨基)硅烷和臭氧化学气相沉积制备的二氧化硅薄膜