机译:重烧和衬底温度对离子辅助沉积TiO_2薄膜光学性能和残余应力的影响
Graduate School of Optoelectronics, National Yunlin University of Science and Technology, Yunlin 640, Taiwan;
rnDepartment of Optics and Photonics/Thin film Technology Center, National Central University, Chungli 320, Taiwan;
rnDepartment of Optoelectronic System Engineering, Minghsin University of Science and Technology, Hsinchu 304, Taiwan;
rnDepartment of Optics and Photonics/Thin film Technology Center, National Central University, Chungli 320, Taiwan;
机译:薄膜厚度和衬底温度对退火过程中离子辅助TiO_2薄膜残余应力的调节
机译:热退火对离子辅助沉积TiO2薄膜光学性能和残余应力的影响
机译:热退火对离子辅助沉积TiO2薄膜光学性能和残余应力的影响
机译:新型离子辅助过滤阴极电弧沉积(IFCAD)技术,可在热敏基底上生产高级薄膜
机译:离子辅助激光烧蚀沉积的立方氮化硼薄膜中的残余应力。
机译:基底预热温度对激光熔覆沉积技术制备的12CrNi2的组织性能和残余应力的影响
机译:离子辅助沉积对氟化镁薄膜的机械,物理,化学和光学性质的影响。
机译:衬底对金属有机化学气相沉积制备的外延pbTiO(sub 3)薄膜的结构和光学性质的影响