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机译:热退火对离子辅助沉积TiO2薄膜光学性能和残余应力的影响
Natl Cent Univ, Inst Opt Sci, Chungli 320, Taiwan;
TITANIUM-OXIDE FILMS; THIN-FILMS; MICROSTRUCTURE; TEMPERATURE; EVAPORATION;
机译:热退火对离子辅助沉积TiO2薄膜光学性能和残余应力的影响
机译:重烧和衬底温度对离子辅助沉积TiO_2薄膜光学性能和残余应力的影响
机译:退火对等离子体离子辅助沉积制备的TiO_(2)和MgF_(2)薄膜的光学,结构和化学性质的影响
机译:沉积后退火处理对TiO2薄膜结构,光学和气敏性能的影响
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:通过离子辅助沉积产生的薄膜的光学,化学和保护性能。