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机译:磁控溅射中室温铁磁性制备掺锰的ZnO薄膜
Tokyo Univ Sci, Shinjuku Ku, Tokyo 1628601, Japan;
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Tokyo Univ Sci, Shinjuku Ku, Tokyo 1628601, Japan|Tianjin Univ Technol & Educ, Tianjin 300222, Peoples R China;
机译:射频磁控溅射沉积铁磁掺杂Mn的ZnO薄膜的结构分析
机译:氧气/氩气压力比对磁控脉冲共溅射制备的Mn掺杂ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:室温下磁控溅射制备导电掺杂Ga的ZnO / Cu / Ga掺杂ZnO薄膜
机译:退火后温度对射频磁控溅射制备的Ga和F共掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
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