...
机译:具有光分解性淬灭剂的化学放大抗蚀剂的散粒噪声极限,用于极端紫外光刻
Osaka Univ, Inst Sci & Ind Res, Ibaraki, Osaka 5670047, Japan;
Evolving Nanoproc Infrastruct Dev Ctr Inc EIDEC, Tsukuba, Ibaraki 3058569, Japan;
Evolving Nanoproc Infrastruct Dev Ctr Inc EIDEC, Tsukuba, Ibaraki 3058569, Japan;
机译:用于极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂灵敏度的散粒噪声极限
机译:化学扩增极紫外抗蚀剂化学梯度对化学梯度的光耐药猝灭剂浓度效应的回归分析
机译:光分解猝灭剂的扩散常数对化学放大的极紫外抗蚀剂化学梯度的影响
机译:化学扩增极紫外线抗蚀剂化学梯度对化学梯度的光致沉积猝灭剂浓度作用的回归分析
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:用于极端紫外光刻的分辨率模糊与化学放大抗蚀剂随机缺陷的关系
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。