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机译:大功率脉冲磁控溅射中通过光学低相干干涉法非接触式测量衬底温度
Meijo Univ, Fac Sci & Technol, Dept Elect & Elect Engn, Nagoya, Aichi 4688502, Japan;
Meijo Univ, Fac Sci & Technol, Dept Elect & Elect Engn, Nagoya, Aichi 4688502, Japan;
Chiba Inst Technol, Fac Engn, Dept Elect & Elect Engn, Narashino, Chiba 2750016, Japan;
Gifu Univ, Fac Engn, Dept Engn Mech, Gifu 5011193, Japan;
机译:使用超连续光的光纤型低相干干涉法测量硅基板的温度
机译:使用光纤型低相干干涉法同时测量SiO_2 / Si晶片上的衬底温度和薄膜厚度
机译:使用光纤型低相干干涉法的多层基板温度测量系统
机译:基材温度对Cu_2O的结构和光学性能的影响:反应脉冲磁控溅射沉积的薄膜
机译:使用低相干干涉测量法/光学相干断层扫描和声学测量对中耳细菌生物膜进行非侵入性评估。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在碳化硼涂层上的低温生长