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収差補正TEMによるZrO_2超薄膜における構造遷移層の解明

机译:像差校正TEM阐明ZrO_2超薄膜中的结构过渡层

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摘要

試料は(001)Si基板上にPLD法1027Kで001エピrnタキシャル成長したアンドープZrO_2超薄膜である.rnFig.1は[001]方向から観察した球面収差補正TEMrn(Plan-View)像と画像の各領域のディフラクトグラムrnを示す.領域1(マトリックス)には100回折スポットrnが現れていないのに対し,領域2(析出相)には100回rn折スポットが出現していることから,それぞれ正方rn相,単斜相である.
机译:样品是未掺杂的ZrO_2超薄膜,该薄膜通过PLD方法在(001)Si衬底上以1027K的轴向生长001生长。 rn图1显示了从[001]方向观察到的球面像差校正TEMrn(平面图)图像和图像每个区域的衍射图rn。虽然在区域1(矩阵)中未出现100个衍射点rn,但是在区域2(沉淀相)中出现了100倍的折叠点,分别表示正方形rn相和单斜晶相。 。

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