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高速高密度相変化記録材料の原子配列と相変化過程の解明

机译:阐明高速高密度相变记录材料的原子排列和相变过程

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摘要

今日の代表的な実用相変化材料は,GSTと呼称されるGeTe-Sb_2Te_3擬二元系化合物と,Sb-Te二元系にGeや,Ag,Inなどを少量添加した多元系化合物の二つである.後者の代表的な化合物は,Ag-In-Sb-Te四元系化合物であり,AISTと呼ばれている.
机译:当今典型的实用相变材料是称为GST的GeTe-Sb_2Te_3伪二元化合物和向Sb-Te二元体系中添加少量Ge,Ag,In等的多组分化合物。是的。后者的典型化合物是Ag-In-Sb-Te季化合物,称为AIST。

著录项

  • 来源
    《まてりあ 》 |2013年第2期| 49-57| 共9页
  • 作者单位

    パナソニック株式会社 R&D本部 デバイスソリューションセンター グリーンマテリアル開発室(〒570-8501守口市八雲中町3-1-1);

    パナソニック株式会社 AVCネットワークス社 ビジネスソリューション事業グループ;

    京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 特定教授;

    (公財)高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門;

    (公財)高輝度光科学研究センター 利用研究促進部門 理化学研究所 放射光科学総合研究センター;

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