机译:金属线的电迁移失败
Tohoku University Sendai 980-8579 Japan;
Department of Intelligent Machines and System Engineering Hirosaki University Bunkyo-cho3 Hirosaki 036-8561 Japan;
Department of Nanomechanics Tohoku University Aoba 6-6-01 Aramaki Aoba-ku Sendai 980-8579 Japan;
Electromigration; failure; integrated circuit; threshold current density;
机译:金属线电迁移失效与断裂力学的比较
机译:金属线的电迁移失败
机译:金属线路中电迁移故障和相关现象的偏置电阻器网络模型
机译:金属线的电迁移失效
机译:用于ULSI应用的IC金属化系统和铜金属化中电迁移故障的建模和表征。
机译:锡在镍和铜金属化过程中表面扩散扩散引起电迁移的新机理
机译:金属线路中电迁移故障和相关现象的偏置电阻器网络模型
机译:电迁移诱导钝化金属线的塑性变形