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机译:双图案光刻中快速且可扩展的并行布局分解
Department of Computer Science and Technology, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China;
Department of Computer Science and Technology, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China;
Department of Computer Science and Technology, Tsinghua University, Beijing 100084, PR China;
Department of Computer Science, Stanford University, CA, USA;
Synopsys Inc., Mountain View, CA, USA;
Double patterning lithography; Layout decomposition; Parallel computing;
机译:双图案光刻的版图分解方法
机译:混合电子梁的两级布局分解和三重图案化光刻
机译:三重图案光刻布局分解的离散松弛方法
机译:高性能计算机平台上双图案光刻的SOI布局分解并行算法
机译:三重图案光刻的版图分解。
机译:使用快速晶圆级LED光刻图案制作的微流体器件
机译:重新审视双图案光刻的布局分解问题*