机译:Si
的光电性能和热激发的电流谱
was studied. Selective photoexcitation makes it possible to identify the type (electron or hole ) and depth of traps. Under the assumption that the capture cross section varies as T~-2,a single hole trap with a depth of 0.42 eV and two electron traps at 0.26 and 0.35 eV were identified.
机译:Si 的光电性能和热激发电流谱
机译:Si 的光电性能和热激发电流谱
机译:Si 的光电性能和热刺激的电流光谱
机译:高达2 MGy的辐射剂量对固化环氧树脂体系的热刺激放电电流谱的影响
机译:介电分析和热激电流分析在聚合物涂层溶液,薄膜和涂层基材上的应用。
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机译:GaAs热激发电流谱的红外淬火和热恢复
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