机译:原子层沉积过程中单晶硅的表面反应性
Tech Univ, St Petersburg State Technol Inst, Moskovskii Pr 26, St Petersburg 190013, Russia;
single-crystal silicon; surface; hydroxyl groups; reactivity;
机译:原子层沉积过程中单晶硅的表面反应性
机译:氮化硅原子层沉积过程中不同表面部位与氯化硅的反应性
机译:氮化硅原子层沉积过程中不同表面部位与氯化硅的反应性
机译:通过二元原子层沉积工艺的组合,Pb(Zr,Ti)O×X薄膜的原子层沉积
机译:在硅表面上的氧化锶膜的金属有机化学气相沉积和原子层沉积。
机译:单晶超薄均质纳米颗粒层的非真空沉积突破:化学浴沉积和原子层沉积的更好替代方法
机译:单晶,超薄,均匀纳米粒子层的非真空沉积的突破:化学浴沉积和原子层沉积的更好替代方案