フラットパネル製造工程におけるデュアルチャネルシステムに基づく欠陥位置特定手法

摘要

近年，急速に拡大するフラットパネル製造工程において，歩留り改善のための検査及び欠陥修復工程の研究は重要なものとなってきている．本研究では，之レSiTFT配線内において修復対象となる電気的欠陥の高精度な位置特定のために，デュアルチャネルシステムに基づく方式を利用した新たな検査手法を提案する．従来のシングルチャネルによる手法においては外来ノイズや振動等による影響で安定性に欠けるという課題があり，更に欠陥配線と正常配線の中間に位置付けられる半断線欠陥についてほ検出が困難であった．捷案手法においてはこれらの課題を克服するとともに検査システムの大きな課題である検査速度についても，新たなアルゴリズムを構築することで更なる改善が可能であり，検査工程及び欠陥検出後の修復工程の時間短縮を実現した．