机译:准分子激光退火中氢在多晶硅中的作用
Department of Electrical and Electronic Engineering, Yamaguchi University, Ube-shi, 755-8611 Japan;
polycrystalline Si; excimer laser annealing; hydrogen; secondary grain growth; stress relaxation; Cat-CVD;
机译:氢在掺杂氢的非晶硅薄膜的准分子激光退火中的作用
机译:多脉冲受激准分子激光退火对多晶硅晶粒的扩大:氢的作用
机译:准分子激光退火生长多晶硅的晶体-氢和衬底热导率对临界能量密度的影响
机译:通过XECL准分子激光退火而无需后氢化的高性能多晶硅薄膜晶体管(TFT)
机译:基准激光退火Si薄膜的微观结构分析与表面平面
机译:准分子激光退火形成的选择性预图案自由自组装Ge纳米点的研究
机译:氢调制的准分子激光退火掺杂A-Si膜
机译:脉冲准分子激光(308海里)退火离子注入硅和太阳能电池制造