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シリコンナノ構造による熱電変換デバイスの特性向上

机译:通过硅纳米结构改善热电转换器件的特性

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摘要

実用化に対して十分な熱電変換効率を得るために,熱電変換素子にナノ構造を導入することにより特性の向上を目指している.本報告では,SOI基板上に作製した二次元シリコン平板構造のゼーベック係数と電気伝導率を測定することにより,二次元量子井戸における電子の閉じ込め効果による熱電変換特性の変化を調べた.その結果,SOI層厚6nm以上の試料に比べて,3nm厚の試料のゼーベック係数が高くなることを見出した.この結果は,SOI層厚を3nm程度まで薄くすることにより,二次元量子井戸における電子の閉じ込め効果が現れることを示唆している.%In order to obtain the thermoelectric characteristics enough for practical use, we make use of nanostructures in the thermoelectric devices. In this study, we measure the Seebeck coefficient and electrical conductivity of 2-dimensional (2D) Si slab structures fabricated on SOI (silicon on insulator) wafers, and we discuss the effect of the electron confinement on the thermoelectric characteristics. It is found that a 3-nm-thick SOI sample has a higher Seebeck coefficient comparing to other samples with SOI thickness above 6 nm. This result suggests that the Seebeck coefficient can be enhanced due to the electron confinement in a 2D quantum well for the SOI samples as thin as 3 nm.
机译:为了获得足够的实用热电转换效率,我们旨在通过将纳米结构引入热电转换元件来改善特性。在此报告中,通过测量在SOI衬底上制造的二维硅平板结构的塞贝克系数和电导率,研究了由于二维量子阱中的电子约束效应而引起的热电转换特性的变化。结果发现,具有3nm厚度的样品的塞贝克系数高于具有6nm或更大的SOI层厚度的样品的塞贝克系数。该结果表明,通过将SOI层的厚度减小至约3nm,电子约束效应出现在二维量子阱中。为了获得足够实用的热电特性,我们在热电设备中使用了纳米结构。在这项研究中,我们测量了在SOI(硅)上制造的二维(2D)硅平板结构的塞贝克系数和电导率在绝缘体晶片上,我们讨论了电子约束对热电特性的影响,发现3nm厚的SOI样品比其他SOI厚度大于6 nm的样品具有更高的塞贝克系数。对于薄至3 nm的SOI样品,由于将电子限制在2D量子阱中,因此可以提高塞贝克系数。

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