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c軸傾斜反転配向ZnO多層膜の作製と横波共振子への応用

机译:c轴倾斜反转取向ZnO多层膜的制备及其在横波谐振器中的应用

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摘要

In a previous study, we have reported c-axis 23° tilted ZnO film for shear wave excitations. We here propose a new multilayered resonator consisting of the c-axis tilted ZnO films. Every layer has same thickness, and the c-axis tilt direction in odd and even layers are symmetric with respect to the film surface normal. In this resonator structure, we can increase its thickness without change of shear mode resonant frequency. This provides the expansion of sensing area (in 50 Ω matching) and high power operation. Moreover, longitudinal wave excitation is expected to be suppressed because thickness extensional mode resonant frequency should shifts to lower frequency.rnIn this study, we have fabricated a multilayered resonator consisting of six layered ZnO films. To prevent degradation of crystalline orientation, SiO_2 buffer layers were inserted between each ZnO layer. The influences of the method for fabricating SiO_2 on the crystalline orientation also have been investigated. Crystalline orientation of the c-axis tilted ZnO films were confirmed by XRD pole figure analysis and FE-SEM. In the sixth order mode shear mode resonant frequency, high efficient shear mode excitation with relatively suppressed extensional mode excitation was observed. More extensional mode suppression is expected by increasing the number of the layer.%本研究では,これまでに電界方向に対してc軸が23°傾いたZnO膜の作製に成功している.この薄膜を用いてc軸の傾斜方向を交互反転させて積層すれば,高次の厚みすべりモード共振子を作製することができる.この共振子では共振周波数を維持したまま膜厚を大きくすることができる.また測定回路とインピーダンス整合を取るときの電極面積(センサ面積)も大きくでき,更に耐電力性の向上や,不要な縦波の励振も抑制できると考えられる.本研究では,RFマグネトロンスパッタ法を用いて,c軸を交互反転させた6層ZnO多層膜を作製した.結晶配向性を維持したまま多層構造を実現するのに有効なSiO_2緩衝層の作製方法について検証した.ZnO膜の三次元的な配向性は極点X線回折法を用いて評価した.さらに断面SEM画像からZnO膜の構造を評価した.共振子の変換損失を測定した結果,横波最小変換損失の6次モード共振周波数において,厚みすべりモード共振は維持されたまま,厚み縦モード共振は抑制された.膜をより多層化することで,さらに高次のすべりモード共振も可能と考えられる.
机译:在先前的研究中,我们报道了c轴倾斜23°的ZnO薄膜用于剪切波激发。我们在这里提出一种新的多层谐振器,该谐振器由c轴倾斜的ZnO薄膜组成。每层具有相同的厚度,奇数层和偶数层中的c轴倾斜方向相对于膜表面法线对称。在这种谐振器结构中,我们可以在不改变剪切模式谐振频率的情况下增加其厚度。这提供了检测区域的扩展(50Ω匹配)和高功率操作。此外,由于厚度扩展模式共振频率应移至较低频率,因此有望抑制纵波激发。在这项研究中,我们制造了由六层ZnO薄膜组成的多层共振器。为了防止晶体取向变差,在每个ZnO层之间插入SiO_2缓冲层。还研究了制备SiO_2的方法对晶体取向的影响。通过XRD极谱分析和FE-SEM证实了c轴倾斜ZnO薄膜的晶体取向。在六阶模态剪切模式共振频率下,观察到高效的剪切模式激发和相对抑制的拉伸模式激发。 %本研究では,これまでに电界方向に対してc轴が23°倾いたZnO膜の作制に成功している。この薄膜を用いてc轴の倾斜方向を相互作用反転させて积层すれば,高次の厚みすべりモード共振子を作制することができる。この共振子では共振周波数を维持したまま膜厚を大きくすることができる。また测定回路本研究では,RFマグネトランスをッタ法る用いて,结晶配向性を维持したまま多层构造を実现するのに有效なSiO_2缓冲层の作制方法について検证した。断面SEM画像からZnO膜の构造を评価した。共振子の変换损失を测定した结果,横波最小変换损失の6次モード共振周波数において,厚みすべり膜ド多层化することで,さらに高次のすべりモード共振も可能と考えられる。

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