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正孔取り出しバッファー層を用いた積層型有機薄膜太陽電池の起電力向上

机译:利用空穴提取缓冲层提高堆叠式有机薄膜太阳能电池的电动势

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摘要

We have fabricated the photovoltaic devices consisting of ITO/hole extraction layer/H_2TPP/C_(60)/BCP/Al structures. Open circuit voltage (V_(oc)) increased when H_2TPP which has high ionization potential was used as p-type semiconductor. Both fill factor and V_(oc) further increased with the insertion of NiO or MoO_3 layer due to the increment of built-in potential. However, photovoltaic properties of the device with MoO_3 was markedly degraded by heat-treatment. It was ascribed to the work-function change of MoO_3 from 5.4eV to 4.7eVand the relaxation electric field at MoO_3/H_2TPP interface from the surface potential measurement.%本研究ではITO/正孔取り出し層/ポルフィリン/フラーレン/バトクプロイン/Al構造の光電変換素子を作製した。P型半導体としてイオン化ポテンシャルが大きなポルフィリンを用いることで起電力は増加したが十分ではなかったため、ビルトインポテンシャルを増加させるために、NiOやMoO_3を挿入したところ起電力とフィルファクターが共に増加した。しかし、MoO_3層を挿入した素子を熱処理すると、光電変換特性は著しく低下した。表面電位測定からMoO_3の仕事関数は5.4eVと大きいが熱処理により4.7eVに激減することがわかった。また正孔取出し層とH_2TPP界面に正孔を取り出す方向に形成されていた電界が熱処理により失われることがわかった。
机译:我们制造了由ITO /空穴提取层/ H_2TPP / C_(60)/ BCP / Al结构组成的光伏器件。当将具有高电离势的H_2TPP用作p型半导体时,开路电压(V_(oc))增加由于内建电位的增加,随着NiO或MoO_3层的插入,填充因子和V_(oc)进一步增加,但是热处理后MoO_3器件的光伏性能明显下降。从表面电势测量,MoO_3的功函数从5.4eV到4.7eV的变化以及MoO_3 / H_2TPP界面处的弛豫电场。%在本研究中,ITO /空穴提取层/卟啉/富勒烯/巴丁甲嘌呤/ Al结构的光电转换产生了设备。通过使用电离势大的卟啉作为P型半导体,电动势增加,但是这是不充分的,因此,通过插入NiO或MoO_3来增大内建电势,电动势和填充率均增加。然而,当对具有MoO_3层的器件进行热处理时,光电转换特性显着降低。从表面电势测量中发现,MoO_3的功函数高达5.4eV,但是通过热处理将其急剧降低至4.7eV。还发现在空穴提取层和H_2TPP之间的界面处形成的电场通过热处理而消失。

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