AFM探針スクラッチナノ加工による強磁性パターン薄膜の狭窄化

摘要

The purpose of this study is to fabricate nano-contacts on ferromagnetic patterned thin film by nanolithography technique using atomic force microscope (AFM) and to observe attractive current-voltage and magnetoresistance characteristics. Direct scratch lithography was performed on NiFe thin films using AFM cantilever with various parameters of cantilever force, speed and count of scans. The nano-contact of 139 nm width and 3.0 x 102 nm2 cross sectional area was successfully fabricated.%本研究は、原子間力顕微鏡（AFM：atomic force microscope）によるダイレクト・スクラッチ加工技術を用いて、強磁性細線に狭窄化を施すことによってナノ接合部を作製し、特異な電流電圧特性や磁気抵抗効果を観測することを目的とした。ここでは、Nife薄膜に対するAFMスクラッチリソグラフィを、カンチレバーの加重、走査速度、走査回数を変化させて行い、加工具合がそれぞれのパラメータにどのように依存しているか観測した。そして、実際にAFMスクラッチ加工を利用してNiFeパターン細線に狭窄化を施したところ、接合幅139nm、断面積3.0×10~2nm~2のナノ接合部の作製に成功した。