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塗布型有機薄膜トランジスタにおける絶縁膜表面SAM処理の検討

机译:涂层型有机薄膜晶体管中绝缘膜表面的SAM处理研究

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摘要

We have investigated self-assembled monolayer (SAM) treatment on SiO_2 gate insulator of poly(3-hexylthiophene)(P3HT) thin-film transistor (TFT), and demonstrated a correlation between mobility and surface energy of the insulator. The device with lower surface free energy shows higher mobility. The docosyltrichlorosilane (DCTS)-treated device exhibits the best performance among the various SAM-treated device examined. Field-effect mobility and on/off ratio of the DCTS-treated P3HT TFT were 0.015 cm~2/Vs and >10~5, respectively.%ポリ(3-へキシルチオフェン)(P3HT)薄膜トランジスタのSiO_2ゲート絶縁膜上の自己組織化単分子膜(SAM)処理の検討を行い、絶縁膜の表面自由エネルギーと移動度の相関性を示した。表面自由エネルギーが低いデバイスで高い移動度が得られた。ドコシルトリクロロシラン処理したデバイスにおいては、移動度1.5×10~(-2)cm~2/Vs、オン/オフ比10~5以上が得られた。
机译:我们研究了在聚(3-己基噻吩)(P3HT)薄膜晶体管(TFT)的SiO_2栅绝缘体上进行的自组装单层(SAM)处理,并证明了绝缘体的迁移率与表面能之间的相关性。表面自由能显示出更高的迁移率。在经各种SAM处理的器件中,经十二烷基三氯硅烷(DCTS)处理的器件表现出最佳性能.DCTS处理的P3HT TFT的场效应迁移率和开/关比为0.015 cm〜2 /分别在Vs和> 10〜5的条件下,研究了聚(3-己基噻吩)(P3HT)薄膜晶体管的SiO_2栅绝缘膜上的自组装单层(SAM)处理,并研究了绝缘膜的表面自由能。流动性被证明是相关的。在具有低表面自由能的装置中获得了高迁移率。在用二十二烷基三氯硅烷处理的装置中,获得了1.5×10〜(-2)cm〜2 / Vs的迁移率和10〜5或更大的开/关比。

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