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ナノ CMOSデバイスを用いた擬似スピンMOSFETの設計と性能

机译:使用纳米CMOS器件的伪自旋MOSFET的设计与性能

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摘要

The design and performance of pseudo-spin-MOSFETs (PS-MOSFETs) using nano-CMOS devices were computationally investigated. The operations of a PS-MOSFET with current-induced magnetization switching were also experimentally demonstrated by the hybrid integration of a vendor-made MOSFET and our-developed spin-transfer-torque magnetic tunnel junction. The nonvolatile SRAM and delay flip-flop applications of PS-MOSFETs were also examined, and nonvolatile power-gating architecture using these circuits was developed.%本論文では,ナノCMOS技術を用いた擬似スピンMOSFETの性能評価と設計法の確立を行った.ま た,ベンダーMOSFETと我々が開発したスピン注入磁化反転MTJをハイブリッド集積化することによって擬似スピン MOSFETを作製し,擬似スピンMOSFETの動作検証•機能実証を行った.さらに,擬似スピンMOSFETを応用した 不揮発性SRAMおよび不揮発性ディレイフリップフロップを検討し,これらを用いた不揮発性パワーゲーティングのア ーキテクチヤを開発した.
机译:对使用纳米CMOS器件的伪自旋MOSFET(PS-MOSFET)的设计和性能进行了计算研究,并通过供应商的混合集成实验证明了具有电流感应磁化开关的PS-MOSFET的操作MOSFET和我们开发的自旋转移转矩磁隧道结。还研究了PS-MOSFET的非易失性SRAM和延迟触发器应用,并开发了使用这些电路的非易失性门控架构。建立了使用该技术的伪自旋MOSFET的性能评估和设计方法,并通过将供应商MOSFET与我们开发的自旋注入磁化开关MTJ混合集成来制造伪自旋MOSFET。此外,我们验证了MOSFET的运行并进行了功能验证。我们还研究了应用了伪自旋MOSFET的非易失性SRAM和非易失性延迟触发器,并使用它们开发了非易失性功率门控架构。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2013年第421期|43-44|共2页
  • 作者单位

    東京工業大学像情報工学研究所 〒226-8502 神奈川県横浜市緑区長津田町 4259,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル,神奈川科学アカデミー 〒213-0012 神奈川県川崎市高津区坂戸 3-2-1KSP内;

    東京工業大学大学院総合理工学研究科 〒226-8502 神奈川県横浜市緑区長津田町4259,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    物質•材料研究機構 〒305-0047 茨城県つくば巿千現1-2-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    物質•材料研究機構 〒305-0047 茨城県つくば巿千現1-2-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    東京大学大学院工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本鄉 7-3-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    物質•材料研究機構 〒305-0047 茨城県つくば巿千現1-2-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    東京大学大学院工学系研究科 〒113-8656 東京都文京区本鄉 7-3-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    物質•材料研究機構 〒305-0047 茨城県つくば巿千現1-2-1,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

    東京工業大学像情報工学研究所 〒226-8502 神奈川県横浜市緑区長津田町 4259,科学技術振興機構 CREST 〒332-0012 埼玉県川口市本町4-1-8 川口センタービル;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    擬似スピンMOSFET; スピントランジスタ; CMOS/スピントロニタス融合技術; パワーゲーティング; 不揮 発性SRAM; 不揮発性フリップフロップ;

    机译:伪自旋MOSFET;自旋晶体管;CMOS / Spintronics融合技术;电源门控;非易失性SRAM;非易失性触发器;
  • 入库时间 2022-08-18 00:28:00

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