首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告 >GaNパワーデバイスのスィッチング特性における深い準位の影響
【24h】

GaNパワーデバイスのスィッチング特性における深い準位の影響

机译:深度对GaN功率器件开关特性的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Kinetic studies on the current collapse of a normally-off AlGaN/GaN heterostructure field effect transistor under a high voltage have been performed above room temperature. The on-state resistance after the on switching from the off state increases at high temperatures, contrary to the expectation that the emission of electrons is enhanced at elevated temperatures. This result indicates that elevating the temperature enhances not only the emission of electrons but also their capture. We experimentally observe that the enhancement of the capture process at high temperatures originates from the energy barrier for the capture of electrons, the value of which is determined to be 0.17±0.04 eV. The origin of the energy barrier for the capture process is explained by a configuration coordinate diagram.%ノーマリオフ型AlGaN/GaNヘテロ構造電界効果トランジスタにおける,高電界印加時の電流コラプスの発現メカニズムについて詳細に調べた。デバイスをオフからオンへスイッチングした直後のオン抵抗の測定結果によると,温度上昇に伴い電流コラプスが増大することがわかった。この結果は,温度が上昇すると電子の放出過程が促進され,電流コラプスが抑制されるという当初の予想とは逆の結果である。我々はこの原因について詳細に調べ,温度の上昇により電子の放出過程が促進されるだけでなく,電子の捕獲過程が同時に促進されることを見出した。また,電子の捕獲過程においてエネルギー障壁が存在することを明らかにし,その大きさを0.17±0.04 eVと決定した。このエネルギー障壁が生じる原因については,配位座標モデルにより説明し,電子と格子の強い相互作用により生じていると結論した。
机译:常温下常态关闭的AlGaN / GaN异质结场效应晶体管在室温下的电流崩塌的动力学研究已在室温下进行。预期在升高的温度下电子的发射会增强。此结果表明,升高温度不仅会增强电子的发射,还会增强电子的捕获。我们实验观察到,高温下捕获过程的增强源自于电子的能垒。电子的俘获,其值确定为0.17±0.04 eV。俘获过程的能垒由构型坐标图解释。常关型AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管的%高我们详细研究了施加电场时电流崩塌表达的机理。根据将器件从关断切换为开通后的导通电阻的测量结果,发现电流崩塌随温度升高而增加。该结果与当温度升高时电子崩溃过程被加速并且电流崩溃被抑制的最初期望相反。我们详细研究了这个原因,发现不仅温度升高加速了电子发射过程,而且加速了电子捕获过程。另外,明确了在电子俘获过程中存在能垒,其大小被确定为0.17±0.04eV。通过配位坐标模型解释了这种能垒的原因,并得出结论,这是由于电子与晶格之间的强相互作用引起的。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号