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机译:由于细菌引起的等离子蚀刻的微掩膜:超大规模集成电路的良率降低器
机译:在SF_6和SF_6 / AR等离子体中蚀刻无定形GE-SB-SE薄膜期间的表面组成和微掩除效果
机译:RF O 2 sub>等离子刻蚀与金属微掩模形成的纳米结构诱导亲水性DLC表面。
机译:溅射银纳米颗粒作为微掩膜的黑硅等离子体刻蚀制备及性能
机译:ULSI技术干蚀刻等离子体的建模
机译:金刚石薄膜在电推进中的应用:低能量溅射产率测量和MPD等离子体辅助化学气相沉积。
机译:采用近零微掩膜的金刚石蚀刻超过10μm
机译:汽油基等离子体蚀刻中掺杂锡掺杂氧化铟的溅射产率和表面化学改性