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Semiconductor microlenses fabricated by one-step focused ion beamdirect writing

机译:通过一步聚焦离子束直接写入制造的半导体微透镜

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摘要

We fabricated a refractive semiconductor micro-lenses using anfocused ion beam (FIB) direct writing technique. The simple one-step FIBnprocess produced high-quality micro-lenses of silicon, the most popularnand low cost semiconductor material used in optoelectronics. A sphericalnSi microlens with a nominal lens diameter of 48 Μm exhibited a radiusncurvature and focal length of 100 and 40 Μm, respectively. Thenmaximum derivation between the measured and designed profiles is lessnthan Λ/100. The surface roughness, RMS, measured by use of atomicnforce microscope in 1× 1 Μm2 square area, is 1.1 nm.nThis microlens fabrication method could be readily applicable due to thensimplicity in processing and the high-quality results
机译:我们使用聚焦离子束(FIB)直接写入技术制造了折射半导体微透镜。简单的一步式FIBn工艺就可以生产出高质量的硅微透镜,这是光电子领域最流行,成本最低的半导体材料。标称透镜直径为48微米的球面硅微透镜表现出的曲率半径和焦距分别为100和40微米。然后,测量和设计轮廓之间的最大导数小于Λ/ 100。使用原子力显微镜在1×1μm2的正方形区域中测量的表面粗糙度RMS为1.1nm。n这种微透镜制造方法由于易于加工和获得高质量结果而易于使用。

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