机译:NIST可追踪粒度的纳米颗粒的可控沉积,用于掩模表面检测系统表征
inspection; integrated circuit manufacture; masks; nanolithography; nanoparticles; particle size; semiconductor materials; silicon compounds; surface contamination; ultraviolet lithography; EUVL technology; Lasertec M1350 mask surface scanner; NIST-traceable particl;
机译:用于掩膜表面检测系统表征的NIST可追踪粒度的$ {rm SiO} _ {2} $纳米颗粒的受控沉积
机译:通过TDMA对NIST可追踪尺寸的高度单分散纳米颗粒进行分类,并通过电泳控制表面上的沉积点尺寸
机译:通过光化学和动力学控制合成和沉积过程,在聚合物表面定制金纳米颗粒的纳米级和微米级定制结构。
机译:NIST可追踪的纳米粒子的受控沉积作为光掩模应用的附加尺寸标准
机译:物理显影剂的荧光标签:控制多孔表面上潜在指纹上银纳米颗粒的大小和沉积。
机译:携带光不稳定基团的寡核苷酸用于控制表面和纳米颗粒缔合中纳米颗粒沉积的用途
机译:离子液体表面成分可控制通过溅射沉积制备的金纳米颗粒的尺寸