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【24h】

Single event effects in PDSOI 4 M SRAM fabricated in UNIBOND

机译:用UNIBOND制造的PDSOI 4 M SRAM中的单事件效果

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摘要

Heavy ion and proton single event upsets of 4 M SOI SRAM with a hardened delay element in each memory cell were evaluated. These 4 M SRAM were fabricated in UNIBOND substrates using a radiation hardened partially depleted silicon-on-insulator CMOS technology. Limiting heavy ion upset cross-section of 1.2/spl times/10/sup -10/ cm/sup 2//bit has been achieved. Limiting proton upset cross-section of 1.1/spl times/10/sup -17/ cm/sup 2//bit has also been obtained.
机译:评估了每个存储单元中带有硬化延迟元件的4 M SOI SRAM的重离子和质子单事件翻转。这4 M SRAM是使用辐射硬化的部分耗尽绝缘体上硅CMOS技术在UNIBOND基板中制造的。已经实现了限制的重离子扰动横截面为1.2 / spl次/ 10sup -10 / cm / sup 2 // bit。还获得了1.1 / spl乘以/ 10 / sup -17 / cm / sup 2 //位的极限质子扰动横截面。

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